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钸镧钇复合氧化物的制备与抛光性能.pdf

钸镧钇复合氧化物的制备与抛光性能.pdf

    摘要

    摘要

    化学机械抛光（CMP）是一种超精密加工技术，它决定了器件的加工精度。

    CeO2因高抛光效率和选择性成为高效抛光材料，掺杂是提高磨粒表面化学活性

    的有效途径。本文通过Y3+掺杂调控碳酸铈和碳酸铈镧的结晶过程获得小颗粒前

    驱体，而后经过热处理制备纳米级掺杂氧化铈粒子并考察了其分散和抛光性能。

    以碳酸氢铵为沉淀剂，利用轻重稀土元素碳酸盐结晶的差异，向碳酸铈中掺

    杂Y3+抑制其结晶并获得小颗粒碳酸盐前驱体。

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