《GBT 45459-2025 微束分析 聚焦离子束 透射电镜试样制备方法》巩固测试试卷及参考答案.pdfVIP

《GB/T45459-2025微束分析聚焦离子束透射电

镜试样制备方法》巩固测试试卷及参考答案

考试时间：90分钟总分：100分

一、单项选择题（共15题，每题2分，共30分）

1.根据GB/T45459-2025，本文件主要规定或描述了哪几个方面？

A.仪器原理、样品要求、试样制备步骤和试验记录。

B.仪器设备、环境与样品要求、试样制备步骤和试验记录。

C.仪器设备、样品要求、质量控制和数据分析。

D.仪器原理、操作人员资质、试样制备步骤和数据分析。

2.标准中定义的“细切(thinmilling)”通常采用什么范围的小束流进行离子

束刻蚀？

A.50pA~600pA

B.0.1pA~2µA

C.0.5nA~4nA

D.4nA~100nA

3.在FIB-TEM试样制备流程中，为消除样品表面非晶损伤层，最后一步的关键步

骤是？

A.终减薄

B.U切

C.清洗

D.细切

4.标准中规定，进行“电子束沉积”时，样品台通常处于何种状态（倾转角）？

A.垂直于离子束镜筒（如52°）

B.不发生倾转（0°）

C.倾转至0°~10°

D.交替倾转±0.5°~±6.5°

5.根据“剂量”的定义，其单位是纳库/微米²（nC/µm²）。如果要在1µm×1

µm的方形区域内，使用2nA的离子束流扫描，驻留时间为1毫秒（ms），请问

该区域内施加的剂量是多少？

A.2nC/µm²

B.4nC/µm²

C.0.02nC/µm²

D.0.002nC/µm²

6.标准第4.2.5条规定，离子光学系统的真空度应优于多少？

A.$10^{-3}$Pa

B.$10^{-5}$Pa

C.$10^{-6}$Pa

D.$10^{-7}$Pa

7.关于环境要求，标准指出，在使用带有扫描透射电镜附件的FIB系统时，工作

区域周围的杂散磁场强度不应超过多少？

A.5µT

B.0.3µT

C.3.5µT

D.1µT

8.标准规定，非导电性样品应如何处理以满足导电性要求？

A.必须使用导电胶粘贴在样品台上。

B.必须在表面喷镀导电膜并接地。

C.禁止使用FIB-TEM方法制备。

D.可以采用离子束扫描中和荷电，或在检测中采取其他去荷电措施。

9.样品制备前的“仪器检查”中，“镜筒合轴的检查”要求在调整聚焦和像散时，

图像应无漂移，否则应如何处理？

A.直接更换离子束光阑。

B.对样品台、离子束光阑和气体注入系统进行初始化操作。

C.立即调整光路合轴。

D.检查气体注入系统中各气体源的温度与浓度。

10.根据图10及相关文本，“清洗”步骤是为了清除哪个步骤在试样表面产生的

损伤层？

A.离子束沉积

B.细切和U切

C.终减薄

D.粗切

11.样品安装时，为使待分析区域处于“共聚焦位置”，通常需要将样品台倾转

至与离子束镜筒垂直的角度，例如52°。这个步骤的主要目的是什么？

A.确保电子束和离子束在样品表面的作用点精确重合，以提高加工和成像精度。

B.为了便于进行“U切”操作。

C.为了让试样更牢固地固定在样品台上。

D.这是每个品牌设备出厂时的强制设定，无明确功能性目的。

12.在“终减薄”步骤中，标准建议采用双向交替倾转样品台的方式，推荐的倾

转角范围是？

A.以52°为中心，倾转±0.5°~±3.5°

B.以52°为中心，倾转±0.5°~±6.5°

C.以0°为中心，倾转±2°~±6°

D.倾转0°~10°

13.根据附录中的信息，本文件的归口单位是？

A.全国无损检测标准化技术委员会(SAC/TC56)

B.全国非金属矿产品及制品标准化技术委员会(SAC/TC406)

C.全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)

D.全国分析检测技术标准化委员会

14.标准中提及，试样制备完成后，应如何存放以防止表面微观结构被破坏？

A.直接放在培养皿中，加盖。

B.将试样载网放置于高弹膜盒或真空自吸附膜盒中。

C.连同载网一起用导电胶固定在新的样品台上。

D.放入真空干燥器中常温保存。

15.在“提取”步骤中，将试样从基体上分离并与载网焊接时，通常会使用哪种

气体源进行焊接沉积？

A.碳源

B.二氧化硅源

C.铂(Pt)源

D.钨源

二、多项选择题（共10题，每题3分，共30