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光刻胶行业分析报告

一、光刻胶行业分析报告

1.1行业概览

1.1.1行业定义与发展历程

光刻胶是半导体制造过程中不可或缺的关键材料，主要用于在晶圆上形成微细电路图案。其发展历程可追溯至20世纪60年代，随着集成电路技术的兴起，光刻胶逐渐成为推动半导体产业发展的核心材料之一。经过数十年的技术迭代，光刻胶的种类和性能不断提升，从最初的正胶、负胶发展到如今的高性能电子束胶、深紫外胶等。近年来，随着5G、人工智能等新兴技术的快速发展，对光刻胶的需求持续增长，市场规模不断扩大。据相关数据显示，2023年全球光刻胶市场规模已达到约150亿美元，预计未来五年将保持年均8%以上的增长速度。这一增长主要得