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- 2026-02-07 发布于云南
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《十五五AI芯片的摩尔定律极限下,三维集成与异质集成技术获巨额研发投资》;目录;;;三维集成的核心技术图谱:TSV、硅通孔、晶圆级键合与单片三维集成的原理、成熟度与十五五期间演进路线
三维集成的实现依赖于一系列关键技术。硅通孔(TSV)技术是实现芯片间垂直电互连的主流方案,其关键挑战在于深宽比、热机械应力及制造成本。晶圆级键合技术(如混合键合)则提供了更高密度的互连能力,是实现高带宽内存(HBM)与逻辑芯片集成的基石。此外,单片三维集成(Monolithic3D)通过在单一晶圆上顺序制造多层器件,能实现更细粒度的互连,是未来远景。在十五五期间,技术演进将聚焦于TSV密度的进一步提升
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