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多光子分子玻璃光刻胶：合成路径、特性剖析与应用展望

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今数字化时代，微电子制造技术作为现代信息技术的核心，推动着各类电子设备的快速发展与创新。从智能手机、电脑到人工智能芯片，微电子制造技术的进步直接决定了这些设备的性能、尺寸和功耗。光刻胶作为微电子制造中的关键材料，在将设计好的电路图案精确转移到半导体晶圆表面的过程中起着不可或缺的作用。光刻工艺是半导体制造流程中的核心步骤，而光刻胶的性能优劣直接影响光刻工艺的精度和分辨率，进而决定了芯片的集成度和性能。随着科技的飞速发展，对芯片性能的要求不断提高，这就迫切需要光刻胶具备更高的分辨率和更出色的复杂结构制造能力