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氮化硅陶瓷

摘要：氮化硅陶瓷是一种具有广阔发展前景的高温，高强度结构陶瓷它具有强度高，抗热震

稳定性好，疲劳韧性高，室温抗弯强度高，耐磨抗氧化耐腐蚀性能好等高性能，已被广泛应

用于各行业。本文介绍了氮化硅陶瓷的基本性质，综述了氮化硅陶瓷的制备工艺和提高其高

温性能的方法以及增韧的途径，并展望了氮化硅陶瓷的发展前景。

关键词：氮化硅陶瓷制备工艺热压烧结

一氮化硅简介：

⑴基本性质：Si3N4陶瓷是一种共价键化合物，基本结构单元为[SiN4]四面体，硅原

子位于四面体的中心，在其周围有四个氮原子，分别位于四面体的四个顶点，然后以每三个

四面体共用一个原子的形式，在三维空间形成连续而又坚固的网络结构。氮化硅的很多性能

都归结于此结构。纯Si3N4为3119，有α和β两种晶体结构，均为六角晶形，其分解温度

在空气中为1800℃，在011MPa氮中为1850℃。Si3N4热膨胀系数低、导热率高，故其耐

热冲击性极佳。热压烧结的氮化硅加热到l000℃后投入冷水中也不会破裂。在不太高的温度

下，Si3N4具有较高的强度和抗冲击性，但在1200℃以上会随使用时间的增长而出现破损，

使其强度降低，在1450℃以上更易出现疲劳损坏，所以Si3N4的使用温度一般不超过

1300℃。由于Si3N4的理论密度低，比钢和工程超耐热合金钢轻得多，所以，在那些要求

材料具有高强度、低密度、耐高温等性质的地方用Si3N4陶瓷去代替合金钢是再合适不过了。

⑵材料性能：Si3N4陶瓷材料作为一种优异的高温工程材料，最能发挥优势的是其在

高温领域中的应用。Si3N4今后的发展方向是：⑴充分发挥和利用Si3N4本身所具有的优

异特性；⑵在Si3N4粉末烧结时，开发一些新的助熔剂，研究和控制现有助熔剂的最佳成分；

⑶改善制粉、成型和烧结工艺；⑷研制Si3N4与SiC等材料的复合化，以便制取更多的高

性能复合材料。它极耐高温，强度一直可以维持到1200℃的高温而不下降，受热后不会熔成

融体，一直到1900℃才会分解，并有惊人的耐化学腐蚀性能，能耐几乎所有的无机酸和30%

以下的烧碱溶液，也能耐很多有机酸的腐蚀；同时又是一种高性能电绝缘材料。

二生产工艺：

由于Si3N4是强共价化合物，扩散系数很小，致密化所必须的体积扩散及晶界扩散速度

很小，烧结驱动力很小。这决定了纯氮化硅不能靠常规固相烧结达到致密化，所以除用5粉

直接氮化的反应烧结外，其他方法都需加入一定量助烧剂与50$1粉体表面的56,反应形

成液相，通过溶解———析出机制烧成致密材料7.8,9。目前制备50$1陶瓷的方法主要有

以下几种：反应烧结（PS）常压烧结（PLS）重烧结（PS）热压烧结（HP）气压烧结（GPS）

热等静压法（HIP）。本文以热压烧结为例简介其生产工艺流程。

热压烧结：把氮化硅粉末与助烧剂置于石墨模具中，在高温下单向加压烧结。由于外加压

力提高了烧结驱动力，加快了a→b的转变及致密化速度。热压烧结法可得到致密度大于95%

的高强氮化硅陶瓷，材料性能高，且制造周期短。但是这种方法只能制造形状简单的制品，

对于形状复杂的部件加工费用高，而且由于单向加压，组织存在择优取向，使性能在与热压

面平行及垂直方向有差异。

生产流程图：

结束语：氮化硅陶瓷的优异性能对于现代技术经常遇到的高温、高速、强腐蚀介质的工作环

境，具有特殊的使用价值。因而使它在许多领域得到应用并有许多潜在的用途。在机械工业

中，用作涡轮叶片、高温轴承、高速切削工具等；在冶金工业中，用作坩埚、燃烧嘴、铝电

解槽衬里等热工设备上的部件；在化学工业中用作耐蚀耐磨零件，如球阀、泵体、燃烧器、

汽化器等；在半导体、航空航天、原子能工业上用作薄膜电容器、高温绝缘体、雷达天线罩、

原子反应堆中的支承件和隔离体、核裂变物质的载体等但其固有的脆性和较高的制备成本还

是极大地限制了Si3N4陶瓷的应用。因此今后，仍要按照实际使用的要求，来设计Si3N4陶

瓷的结构和性能，优化Si3N4陶瓷的制备工艺，并在降低制作成本，提高其可靠性、稳定

性上作出进一步的努力。

参考文献：

[1]王正军.氮化硅陶瓷的研究进展[J]材料科学与工艺200972155-158.

[2]杜大明赵世坤李华平等氮化硅常压烧结研究进展[J].山东陶瓷20036432-35.

[3]张煜东