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磁控溅射碳氮化钛薄膜对AZ31镁合金性能的优化与影响探究

一、引言

1.1研究背景与意义

镁合金作为实际应用中最轻的金属结构材料，具有密度小（约为铝的2/3，铁的1/4）、比强度和比刚度高、减震性好、电磁屏蔽能力强、易回收等诸多优点，在航空航天、汽车工业、电子信息等领域展现出巨大的应用潜力。在航空航天领域，其轻质特性有助于减轻飞行器重量，提升燃料效率与飞行性能；在汽车工业中，可实现汽车轻量化，降低能耗与排放；在电子信息领域，能满足电子产品轻薄化、高性能的需求。

然而，镁合金的化学和电化学活性较高，电极电位很负，导致其耐腐蚀性能较差。在潮湿、酸碱等环境中，镁合金极易发生腐蚀，这不仅会降低其力学性能和使用寿命，还可能引发安全隐患，严重制约了镁合金的广泛应用。在海洋环境下，镁合金制成的零部件可能在短时间内就遭受严重腐蚀，失去原有的性能。因此，提高镁合金的耐腐蚀性成为当前材料领域亟待解决的关键问题。

表面涂层技术是提高镁合金耐腐蚀性的有效方法之一。通过在镁合金表面制备一层防护涂层，可以隔离镁合金基体与腐蚀介质的接触，从而抑制腐蚀的发生。碳氮化钛（TiCN）薄膜作为一种新型的涂层材料，具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性以及优异的耐腐蚀性能，在提高镁合金表面性能方面具有巨大的潜力。

磁控溅射技术是一种常用的物理气相沉积技术，具有沉积速率高、工艺简单、薄膜质量好、对环境友好等优点，被广泛应用于制备各种功能薄膜。采用磁控溅射技术在AZ31镁合金表面制备碳氮化钛薄膜，有望充分发挥两者的优势，显著提高AZ31镁合金的耐腐蚀性能和综合性能，为镁合金在更广泛领域的应用提供技术支持。

本研究对于拓展镁合金的应用范围、推动相关产业的发展具有重要的理论意义和实际应用价值。通过深入研究AZ31镁合金表面磁控溅射碳氮化钛薄膜的制备工艺、结构与性能之间的关系，可以为优化薄膜性能、开发新型镁合金表面防护技术提供理论依据和技术参考。从实际应用角度来看，提高镁合金的耐腐蚀性能能够降低其在使用过程中的维护成本和更换频率，提高产品的可靠性和安全性，从而带来显著的经济效益和社会效益。

1.2国内外研究现状

国内外学者在AZ31镁合金表面处理方面开展了大量研究工作。在表面涂层技术领域，微弧氧化技术可在镁合金表面形成陶瓷质氧化膜，有效提高其耐蚀性和耐磨性，所形成的氧化膜主要由MgO和MgAl?O?尖晶石相组成，总膜厚可达100μm以上，具有明显的三层结构，与基体形成微区冶金结合。化学转化处理通过在金属表面形成氧化物或金属化合物钝化膜来提高耐蚀性，如植酸转化形成的单分子有机膜层能有效阻止侵蚀性阴离子进入金属表面，抑制金属腐蚀，其膜层主要成分为植酸的镁盐和铝盐，与基体结合牢固，耐蚀性有明显提高；磷化处理形成的磷化膜为微孔结构，与基体结合牢固，具有良好的吸附性，可作为涂装前的底层。但这些传统表面处理技术在某些性能提升上仍存在一定局限性，如微弧氧化膜层存在孔隙，化学转化膜较薄且结合力较弱。

在碳氮化钛薄膜制备与性能研究方面，国外起步较早，在技术研发与产业化方面具有一定优势。他们在碳氮化钛薄膜的制备工艺优化、微观结构调控以及性能提升等方面取得了显著成果。采用先进的物理气相沉积技术，制备出高质量的碳氮化钛薄膜，在切削工具领域应用广泛，显著提高了刀具的使用寿命和切削性能。国内近年来在该领域也取得了较大进展，随着对新材料需求的增加，越来越多的科研机构和企业投入到碳氮化钛薄膜的研究与开发中。通过自主研发和技术引进，不断改进制备工艺，提高薄膜质量，并拓展其应用领域。在航空航天、电子信息等领域，碳氮化钛薄膜的应用研究也在逐步深入。然而，目前对于AZ31镁合金表面磁控溅射碳氮化钛薄膜的研究还相对较少，尤其是在薄膜的微观结构与性能之间的内在联系、制备工艺对薄膜性能的影响规律等方面，仍有待进一步深入研究和系统探索。

1.3研究内容与方法

本研究旨在通过磁控溅射技术在AZ31镁合金表面制备碳氮化钛薄膜，并对薄膜的结构、性能及其影响因素进行深入研究，具体研究内容包括：

碳氮化钛薄膜的制备：采用磁控溅射技术，以钛靶和碳靶为原料，在不同的溅射功率、氮气流量、溅射时间等工艺参数下，在AZ31镁合金表面制备碳氮化钛薄膜。通过改变工艺参数，探索最佳的制备工艺条件，以获得性能优良的碳氮化钛薄膜。

薄膜的结构与形貌表征：运用场发射扫描电镜（FESEM）观察薄膜的表面形貌和截面结构，分析薄膜的表面粗糙度、颗粒大小和分布情况以及膜基界面结合情况；利用X射线衍射仪（XRD）分析薄膜的晶体结构和相组成，确定薄膜中碳氮化钛的晶体结构类型以及是否存在其他杂质相；借助X射线光电子能谱仪（XPS）研究薄膜的化学组成和元素价态，明确薄膜中钛