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- 2026-02-18 发布于山东
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集成电路工程师考试试卷及答案
填空题(共10题,每题1分)
1.MOS管中,______型管导通时源漏之间形成N型导电沟道。
答案:NMOS
2.12英寸晶圆直径等于______毫米。
答案:300
3.主流逻辑综合EDA工具是______(举1例)。
答案:SynopsysDesignCompiler
4.工艺节点衡量单位是______(如7nm)。
答案:纳米(nm)
5.深紫外(DUV)光刻光源波长为______纳米。
答案:193
6.引脚位于底部的高密度封装是______。
答案:BGA
7.STA主要分析建立时间和______时间。
答案:保持
8.通过激励波形检查输出的验证方法是______验证。
答案:动态
9.集成电路功耗分为动态和______功耗。
答案:静态
10.IP核按层次分为硬核、固核和______核。
答案:软
单项选择题(共10题,每题2分)
1.NMOS导通条件是()
A.栅极电压源极电压+阈值电压
B.栅极电压源极电压+阈值电压
C.源极电压栅极电压+阈值电压
D.源极电压栅极电压-阈值电压
答案:A
2.CMOS反相器噪声容限取决于()
A.电源电压
B.阈值电压
C.负载电容
D.沟道长度
答案:B
3.版图设计EDA工具是()
A.SynopsysVCS
B.CadenceVirtuoso
C.MentorQuesta
D.SynopsysSpyGlass
答案:B
4.工艺节点缩小的核心驱动力是()
A.降低功耗
B.提高集成度
C.增加引脚数
D.简化制造
答案:B
5.光刻公式R=kλ/NA中,NA代表()
A.数值孔径
B.波长
C.工艺因子
D.分辨率
答案:A
6.适合高频应用的封装是()
A.QFP
B.BGA
C.CSP
D.TO-220
答案:C
7.静态功耗主要来源是()
A.开关功耗
B.短路功耗
C.漏电流
D.电容充电
答案:C
8.STA不分析的是()
A.建立时间违规
B.保持时间违规
C.时钟skew
D.功能错误
答案:D
9.可配置IP核是()
A.硬核
B.固核
C.软核
D.以上都不是
答案:B
10.ESD防护原理是()
A.增加串联电阻
B.提供泄放路径
C.提高电源电压
D.降低时钟频率
答案:B
多项选择题(共10题,每题2分)
1.IC设计流程阶段包括()
A.需求分析
B.RTL设计
C.逻辑综合
D.版图设计
答案:ABCD
2.CMOS工艺关键步骤()
A.晶圆制备
B.光刻
C.刻蚀
D.离子注入
答案:ABCD
3.动态功耗组成()
A.开关功耗
B.短路功耗
C.漏电流
D.时钟树功耗
答案:ABD
4.IC验证方法()
A.动态仿真
B.静态分析
C.形式验证
D.原型验证
答案:ABCD
5.IP核复用优势()
A.缩短周期
B.降低成本
C.提高可靠性
D.增加灵活性
答案:ABCD
6.封装技术类型()
A.通孔封装
B.表面贴装
C.CSP
D.SiP
答案:ABCD
7.时序违规类型()
A.建立时间违规
B.保持时间违规
C.时钟skew过大
D.时钟周期不满足
答案:ABCD
8.ESD防护结构()
A.二极管
B.三极管
C.电阻
D.电容
答案:AB
9.DFM要点()
A.最小线宽控制
B.间距规则
C.对齐精度
D.测试点设置
答案:ABCD
10.低功耗技术()
A.多电压域
B.时钟门控
C.电源门控
D.DVFS
答案:ABCD
判断题(共10题,每题2分)
1.PMOS阈值电压为正值。()
答案:错
2.CMOS反相器稳态功耗为0。()
答案:对
3.工艺节点越小,速度越快。()
答案:对
4.STA需要测试向量。()
答案:错
5.软核IP可修改设计。()
答案:对
6.光刻分辨率与波长成反比。()
答案:对
7.BGA引脚数比QFP少。()
答案:错
8.静态功耗仅来自漏电流。()
答案:错
9.DFM只关注制造阶段。()
答案:错
10.ESD防护仅需输入引脚。()
答案:错
简答题(共4题,每题5分)
1.简述CMOS反相器工作原理。
答案:由NMOS和PMOS互补组成,VDD接PMOS源极,GND接NMOS源极,栅极连输入IN,漏极连输出OUT。IN为高时,PMOS截止、NMOS导通,OUT拉低至GND;IN为低时,PMOS导通、NMOS截止,OUT拉高至VDD。稳态两管均截止,无静态电流,功耗极低。
2.IC设计流程主要阶段?
答案:①需求分析:明确功能/性能指标;②RTL设计:用Verilog/VHDL实现逻辑;③逻辑综合:转换为门级网表,满足约束;④版图设计:映射到物理版图,检查DRC/LVS;⑤签核验证:时序、功耗、DFT验证,确保可制造。
3.什么是STA?主要分析内容?
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