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  • 2026-02-18 发布于山东
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集成电路工程师考试试卷及答案

填空题(共10题,每题1分)

1.MOS管中,______型管导通时源漏之间形成N型导电沟道。

答案:NMOS

2.12英寸晶圆直径等于______毫米。

答案:300

3.主流逻辑综合EDA工具是______(举1例)。

答案:SynopsysDesignCompiler

4.工艺节点衡量单位是______(如7nm)。

答案:纳米(nm)

5.深紫外(DUV)光刻光源波长为______纳米。

答案:193

6.引脚位于底部的高密度封装是______。

答案:BGA

7.STA主要分析建立时间和______时间。

答案:保持

8.通过激励波形检查输出的验证方法是______验证。

答案:动态

9.集成电路功耗分为动态和______功耗。

答案:静态

10.IP核按层次分为硬核、固核和______核。

答案:软

单项选择题(共10题,每题2分)

1.NMOS导通条件是()

A.栅极电压源极电压+阈值电压

B.栅极电压源极电压+阈值电压

C.源极电压栅极电压+阈值电压

D.源极电压栅极电压-阈值电压

答案:A

2.CMOS反相器噪声容限取决于()

A.电源电压

B.阈值电压

C.负载电容

D.沟道长度

答案:B

3.版图设计EDA工具是()

A.SynopsysVCS

B.CadenceVirtuoso

C.MentorQuesta

D.SynopsysSpyGlass

答案:B

4.工艺节点缩小的核心驱动力是()

A.降低功耗

B.提高集成度

C.增加引脚数

D.简化制造

答案:B

5.光刻公式R=kλ/NA中,NA代表()

A.数值孔径

B.波长

C.工艺因子

D.分辨率

答案:A

6.适合高频应用的封装是()

A.QFP

B.BGA

C.CSP

D.TO-220

答案:C

7.静态功耗主要来源是()

A.开关功耗

B.短路功耗

C.漏电流

D.电容充电

答案:C

8.STA不分析的是()

A.建立时间违规

B.保持时间违规

C.时钟skew

D.功能错误

答案:D

9.可配置IP核是()

A.硬核

B.固核

C.软核

D.以上都不是

答案:B

10.ESD防护原理是()

A.增加串联电阻

B.提供泄放路径

C.提高电源电压

D.降低时钟频率

答案:B

多项选择题(共10题,每题2分)

1.IC设计流程阶段包括()

A.需求分析

B.RTL设计

C.逻辑综合

D.版图设计

答案:ABCD

2.CMOS工艺关键步骤()

A.晶圆制备

B.光刻

C.刻蚀

D.离子注入

答案:ABCD

3.动态功耗组成()

A.开关功耗

B.短路功耗

C.漏电流

D.时钟树功耗

答案:ABD

4.IC验证方法()

A.动态仿真

B.静态分析

C.形式验证

D.原型验证

答案:ABCD

5.IP核复用优势()

A.缩短周期

B.降低成本

C.提高可靠性

D.增加灵活性

答案:ABCD

6.封装技术类型()

A.通孔封装

B.表面贴装

C.CSP

D.SiP

答案:ABCD

7.时序违规类型()

A.建立时间违规

B.保持时间违规

C.时钟skew过大

D.时钟周期不满足

答案:ABCD

8.ESD防护结构()

A.二极管

B.三极管

C.电阻

D.电容

答案:AB

9.DFM要点()

A.最小线宽控制

B.间距规则

C.对齐精度

D.测试点设置

答案:ABCD

10.低功耗技术()

A.多电压域

B.时钟门控

C.电源门控

D.DVFS

答案:ABCD

判断题(共10题,每题2分)

1.PMOS阈值电压为正值。()

答案:错

2.CMOS反相器稳态功耗为0。()

答案:对

3.工艺节点越小,速度越快。()

答案:对

4.STA需要测试向量。()

答案:错

5.软核IP可修改设计。()

答案:对

6.光刻分辨率与波长成反比。()

答案:对

7.BGA引脚数比QFP少。()

答案:错

8.静态功耗仅来自漏电流。()

答案:错

9.DFM只关注制造阶段。()

答案:错

10.ESD防护仅需输入引脚。()

答案:错

简答题(共4题,每题5分)

1.简述CMOS反相器工作原理。

答案:由NMOS和PMOS互补组成,VDD接PMOS源极,GND接NMOS源极,栅极连输入IN,漏极连输出OUT。IN为高时,PMOS截止、NMOS导通,OUT拉低至GND;IN为低时,PMOS导通、NMOS截止,OUT拉高至VDD。稳态两管均截止,无静态电流,功耗极低。

2.IC设计流程主要阶段?

答案:①需求分析:明确功能/性能指标;②RTL设计:用Verilog/VHDL实现逻辑;③逻辑综合:转换为门级网表,满足约束;④版图设计:映射到物理版图,检查DRC/LVS;⑤签核验证:时序、功耗、DFT验证,确保可制造。

3.什么是STA?主要分析内容?

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