CN100545683C 渐层式滤波片的制作方法 （鸿富锦精密工业（深圳）有限公司）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利说明书

专利号ZL200610163604.3

[51]Int.Cl.

G02B5/20(2006.01)G02B27/09(2006.01)

[45]授权公告日2009年9月30日[11]授权公告号CN100545683C

[22]申请日2006.11.30

[21]申请号200610163604.3

[73]专利权人鸿富锦精密工业(深圳)有限公司地址台湾省台北县土城市自由街2号

共同专利权人鸿海精密工业股份有限公司

[72]发明人詹博文林君鸿

[56]参考文献

CN1458297A2003.11.26

US2002/0155213A12002.10.24

CN1354371A2002.6.19

JP2002-258035A2002.9.11

CN1828345A2006.9.6审查员陈俊

权利要求书2页说明书9页附图10页

[54]发明名称

渐层式滤波片的制作方法

[57]摘要

一种渐层式滤波片的制作方法，为改善已知技术在镀膜测试时需要耗费相当的时间与成本进行蒙板校正的制作过程。本发明先利用软件模拟手段进行在透明基材上镀上渐层式薄膜的模拟，掌握各单层膜材料、镀膜机内部气流与蒙板的设置在镀膜时的物理性质，才真正进行各单层膜镀膜的制作过程，以此达到节省时间与成本、镀膜的成功率能够大大提高、测试制作过程的次数减少、制作过程的效率提升等功效。主要步骤包括先决定滤波片的渐层变化，再以软件模拟手段估计对应单层膜厚度，之后依据单层膜的厚度推算蒙板的形态，最后才在镀膜机内制作具有渐层变化的滤波片。

决定所需的渐层变化

计算单层膜厚度

推算蒙板形状

制作渐层式滤波片

S601

S603

S605

S607

200610163604.3权利要求书第1/2页

2

1.一种渐层式滤波片的制作方法，其特征在于所述的方法包括：

决定一个或多个滤波片的渐层变化；

以模拟手段分析单层膜的穿透率与在光谱中各波段波长范围的关系，再由该滤波片的渐层变化估计出所述单层膜厚度的变化量，以推算对应所述单层膜的厚度；

推算一个或多个蒙板的形态，依据所述单层膜的厚度推算所述蒙板的形态；以及

以电子束蒸镀方式在设置所述蒙板的镀膜机内制作所述具有渐层变化的所述滤波片。

2.如权利要求1所述的渐层式滤波片的制作方法，其特征在于通过重复所述方法的步骤完成多层的所述渐层式滤波片。

3.如权利要求1所述的渐层式滤波片的制作方法，其特征在于所述的电子束蒸镀方式利用一个或多个激发装置激发一个或多个镀膜源射出离子进行镀膜。

4.如权利要求3所述的渐层式滤波片的制作方法，其特征在于所述的镀膜源包括高折射率的材料与低折射率的材料，所述的高折射率的材料为Ta?Os,TiO?,Nb?O?,M?之一或其组合，而低折射率的材料为SiO?,MgF?之一或其组合。

5.如权利要求1所述的渐层式滤波片的制作方法，其特征在于所述的蒙板的形态包括所述蒙板的形状、利用一个或多个支撑杆调整的位置、所述蒙板边缘与一个或多个支撑杆的角度。

6.一种渐层式滤波片的制作方法，其特征在于所述的方法包括：

制备镀膜环境，包括镀膜机，其中设置有承载一个或多个透明基材的基材夹具，和一个或多个镀膜源，与一个或多个激发所述镀膜源的激发装置；

决定所需制作在所述透明基材上的渐层形态；

由模拟手段分析一个或多个单层膜的穿透率与在光谱中各波段波长范围的关系后，由一个或多个滤波片的渐层变化估计该一个或多个单层膜厚度的变化量，以估计所述单层膜厚度，所述模拟手段主要利用调整其中多个高折射率材料模块与低折射率材料模块模拟出所需的光谱结构，以估计所述单

200610163604.3权利要求书第2/2页

3

层膜厚度；

依据所述单层膜厚度制作一个或多个蒙板；

在所述镀膜机内设置所述蒙板，并以电子束蒸镀方式制作形成具有所述渐层形态的该一个或多个滤波片。

7.如权利要求6所述的渐层式滤波片的制作方法，其特征在于通过重复所述方法的步骤完成多层的所述滤波片。

8.如权利要求6所述的渐层式滤波片的制作方法，