CN101082768A 光掩模基板以及光掩模制作方法 （信越化学工业株式会社）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公布说明书

[21]申请号200710136300.2

[51]Int.Cl.

GO3F1/14(2006.01)

GO3F1/08(2006.01)

GO3F1/00(2006.01)

[43]公开日2007年12月5日[11]公开号CN101082768A

[22]申请日2007.3.9

[21]申请号200710136300.2

[30]优先权

[32]2006.3.10[33]JP[31]2006-065763

[71]申请人信越化学工业株式会社地址日本东京

共同申请人凸版印刷株式会社

[72]发明人吉川博树稻月判臣冈崎智原口崇佐贺匡小岛洋介

千叶和明福岛佑一

[74]专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人李帆

权利要求书3页说明书30页附图10页

[54]发明名称

光掩模基板以及光掩模制作方法

[57]摘要

一种光掩模基板，其包括透明衬底、沉积在衬底上并包含易于氟干法蚀刻的金属或金属化合物的光屏蔽膜、以及沉积在该光屏蔽膜上并包含耐氟干法蚀刻的另一金属或金属化合物的蚀刻掩模膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时，由图案密度的依赖性所