CN101446667A 一种大功率可变光学衰减片的制作方法 （武汉光迅科技股份有限公司）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局[51]Int.Cl.G02B6/26(2006.01)

[12]发明专利申请公布说明书

[21]申请号200810154429.0

[43]公开日2009年6月3日[11]公开号CN101446667A

[22]申请日2008.12.24

[21]申请号200810154429.0

[71]申请人武汉光迅科技股份有限公司

地址430074湖北省武汉市洪山区邮科院路88号

[72]发明人王定理祝业盛马卫东唐琼廖志霞

[74]专利代理机构天津市北洋有限责任专利代理事务所

代理人江镇华

权利要求书1页说明书4页附图2页

[54]发明名称

一种大功率可变光学衰减片的制作方法

[57]摘要

在玻璃基片表面制作倒台型光刻胶图形在带有倒台型光刻胶的玻璃基片表面镀制金属薄膜剥离掉倒台型光刻胶及其表面附着的金属薄膜本发明属于无源光器件技术领域，涉及一种大功率可变光学衰减片的制作方法，它通过在玻璃基片上制作沿着基片长度方向透光面积逐渐变化的金属薄膜透光孔，实现沿基片长度方向光功率衰减量的渐变，金属薄膜透光孔是采用金属剥离的方法制作的。本发明不需要采用湿法或干法刻蚀工艺来制作金属薄膜透光孔，制作工艺简单，重复性好；表

在玻璃基片表面制作倒台型光刻胶图形

在带有倒台型光刻胶的玻璃基片表面镀制金属薄膜

剥离掉倒台型光刻胶及其表面附着的金属薄膜

200810154429.0权利要求书第1/1页

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1.一种大功率可变光学衰减片的制作方法，它通过在玻璃基片上制作沿着基片长度方向透光面积逐渐变化的金属薄膜透光孔，实现沿基片长度方向光功率衰减量的渐变，其特征在于，所述的金属薄膜透光孔是采用金属剥离的方法制作的。

2.如权利要求1所述的大功率可变光学衰减片的制作方法，包括下列步骤：

(1)利用分布有透光小孔的掩膜板，在玻璃基片表面制作倒台型光刻胶图形，所述掩膜板的透光面积沿着基片长度方向逐渐变化；

(2)在带有倒台型光刻胶的玻璃基片表面镀制金属薄膜；

(3)将镀制好金属薄膜的玻璃基片浸泡在去胶液内，剥离掉倒台型光刻胶及其表面附着的金属薄膜。

3.如权利要求2所述的大功率可变光学衰减片的制作方法，其特征在于：所述玻璃基片采用楔角型玻璃基片，玻璃基片的一面或两面镀有增透薄膜。

4.如权利要求2所述的大功率可变光学衰减片的制作方法，其特征在于：所述的金属薄膜为钛、镍、铝、铬、金中的任何一种或几种金属材料或上述由上述金属的金属合金材料。

5.如权利要求2所述的大功率可变光学衰减片的制作方法，其特征在于：其中的步骤(2)采用溅射或蒸发的方法镀制金属薄膜。

6.如权利要求2所述的大功率可变光学衰减片的制作方法，其特征在于：所述金属薄膜的衰减量大于60dB。

200810154429.0说明书第1/4页

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一种大功率可变光学衰减片的制作方法

技术领域

本发明涉及一种可变光衰减片的制作方法，属于光通信技术领域，特别涉及到无源光器件技术领域。

背景技术

可变光功率衰减器(VariableOpticalAttenuator,VOA)是现代宽带光纤通信系统中的重要元器件，在波分复用光纤网络中，可变光功率衰减器用来调整各信号的强弱，补偿光传输过程中的功率波动，改善网络的总体性能。

目前实现可变光衰减功能的方案有很多，有采用电磁或热光晶体的，有采用微机电(MEMS)技术的，也有采用在玻璃基片上镀制厚度渐变的金属吸收膜的(CN7),或者是在玻璃基片上制作透光面积逐渐变化的透光金属小孔的(US6,480,662B1)。

其中US6,480,662B1(Designofavariableattenuatorandfabricationofitsshutterelement.)与本发明内容最为类似，它提供了一种制作金属小孔型衰减片的制作方法，它首先在玻璃基片上镀制比较厚的金属薄膜，利用光刻工艺，并结合干法刻蚀或湿法化学腐蚀的方法，在金属薄膜上形成许多透光小孔，其中透光小孔的密度或透光面积大小是沿玻璃基片长度方法逐