CN111755362B 基片处理装置及基片处理方法 （东京毅力科创株式会社）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN111755362B

(45)授权公告日2025.05.02

(21)申请号202010221812.4(51)Int.Cl.

H01L21/67(2006.01)

(22)申请日2020.03.26

H01L21/306(2006.01)

(65)同一申请的已公布的文献号

(56)对比文件

申请公布号CN111755362A

CN104934350A,2015.09.23

(43)申请公布日2020.10.09

JP2017195338A,2017.10.26

(30)优先权数据JP2018139259A,2018.09.06

2019-0678892019.03.29JP审查员宋丽

(73)专利权人东京毅力科创株式会社

地址日本东京都

(72)发明人吉田博司

(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限

公司11322

专利代理师龙淳徐飞跃

权利要求书2页说明书9页附图8页

(54)发明名称

基片处理装置及基片处理方法

(57)摘要

本发明提供一种基片处理装置及基片处理

方法。一种基片处理装置，其具有：混合部，其按

预定的混合比混合作为处理液的原料的第一磷

酸与添加剂来调配混合液；修正所述处理液的原

料的混合比的混合比修正部；用所述处理液处理

基片的处理部，所述混合部用于贮存所述混合液

的混合罐；对所述混合罐供给所述第一磷酸的第

一磷酸供给部；和对所述混合罐供给所述添加剂

的添加剂供给部，所述混合比修正部具有：将所

述混合液从所述混合部输送至所述处理部的送

液线路；和在所述送液线路的中途供给第二磷酸

的第二磷酸供给部。由此，能够适当变更磷酸与

B添加剂的混合比。

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CN111755362B权利要求书1/2页

1.一种基片处理装置，其特征在于，具有：

用处理液来处理基片的处理部；

混合部，其按预定的混合比混合作为所述处理液的原料的第一磷酸与氧化硅析出抑制

剂，来调配混合液；

混合比修正部，其修正所述处理液的原料的混合比，具有将所述混合液从所述混合部

输送至所述处理部的送液线路和在所述送液线路的中途供给第二磷酸的第二磷酸供给部；

和

控制部，其控制所述第一磷酸与所述氧化硅析出抑制剂的第一混合比和所述混合液与

所述第二磷酸的第二混合比，

所述混合部包括：用于贮存所述混合液的混合罐；对所述混合罐供给所述第一磷酸的

第一磷酸供给部；和对所述混合罐供给所述氧化硅析出抑制剂的氧化硅析出抑制剂供给

部，

所述控制部通过基于所述基片的处理条件变更所述第一混合比和所述第二混合比中

的至少一者，来变更在所述处理部中供给到所述基片上的所述处理液所包含的所述氧化硅

析出抑制剂的浓度。

2.根据权