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半导体设备行业分析报告：高景气赛道，国内企业崭露头角.pdf

半导体设备行业分析报告：高景气赛道，国内企业崭露头角.pdf

    目录

    1．半导体行业维持高景气度6

    2．前道设备为集成电路制造投资重中之重9

    3．美日欧设备供应商主导，各环节格局略有不同12

    3.1光刻设备：光刻机难突破，涂胶显影前道track加速国产12

    3.1.1光刻机：ASML绝对龙头，国内企业短期突破难12

    3.1.2涂胶显影设备：东京电子一家独大，芯源微订单快速增长15

    3.2刻蚀设备：生产核心设备之一，干法刻蚀为主流16

    3.3薄膜沉积设备：生产核心设备之一，ALD为企业发展重点18

    3.4清洗设备：国产化比例有望快速提升的赛道20

    3.5离子注入设备：掺杂工艺关键环

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