CN101915949B 光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法 (上海交通大学).docxVIP

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CN101915949B 光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法 (上海交通大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN101915949B

(45)授权公告日2011.08.31

(21)申请号201010247652.7

(22)申请日2010.08.06

(73)专利权人上海交通大学

地址200240上海市闵行区东川路800号

(72)发明人习俊通i许伟陈晓波

(74)专利代理机构上海交达专利事务所31201代理人周文娟

(51)Int.CI.

GO2B5/18(2006.01)

GO2B27/00(2006.01)

GO1B11/25(2006.01)

审查员刘时雄

权利要求书1页说明书3页附图2页

(54)发明名称

光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法

(57)摘要

CN101915949B光刹用5英玻光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法,属于机械工程和光学测量技术领域。本发明按照测量要求,设计光栅的尺寸大小,建立光栅尺寸与图像之间的对应关系,利用MATLAB软件设计9幅满足三频三步相移编码方案的灰度图,并使用抖动函数dither将灰度图转化为黑白二值图。再在Ledit软件中设计光栅,利用电子束扫描光刻机制作光栅。本发明基于图像抖动的原理,实现物理结构光栅满足余弦分布,减少投影图片数量,同时保证了测量的精度和稳定性。此外本发明在一块石英玻璃片上制作所有光

CN101915949B

光刹用5英玻

CN101915949B权利要求书1/1页

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1.一种光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的制作方法,其特征在于,该方法包括:

第一步:按照测量场景以及测量距离的要求,设计物理结构光栅的尺寸大小,根据光栅的加工精度建立光栅尺寸与图像像素点之间的对应关系,其中:每幅光栅图的尺寸为6.12mm×4.9mm,对应的图片大小为2048×1650像素,物理光栅中的1个单位对应图片中的4个像素;

第二步:在计算机上利用MATLAB软件设计光栅图片,生成9幅满足三频三步相移编码方案的灰度图,图片灰度值在横向方向上满足余弦分布,其中:从下到上第1、2、3幅灰度图为周期相同的第一组灰度图,周期为28个像素,对应于物理光栅上的7个单位,其中第1幅灰度图的起始相位为60°,第2幅灰度图的起始相位为180°,第3幅灰度图的起始相位

为300°,第1幅灰度图的相位分布满足:第2幅灰度图的相位分布满足:

第3幅灰度图的相位分布满足第4、5、6幅灰度图

第3幅灰度图的相位分布满足

为周期相同的第二组灰度图,周期为32个像素,对应于物理光栅上的8个单位,其中第4幅灰度图的起始相位为60°,第5幅灰度图的起始相位为180°,第6幅灰度图的起始相位

为300°,第4幅灰度图的相位分布满足第5幅灰度图的相位分布满

足第6幅灰度图的相位分布满足第7、8、9幅灰度图为周期相同的第三组灰度图,周期为36个像素,对应于物理光栅上的9个单位,其中第7幅灰度图的起始相位为60°,第8幅灰度图的起始相位为180°,第9幅灰度图的起始相位

为300°,第7幅灰度图的相位分布满足第8幅灰度图的相位分布满足:

第9幅灰度图的相位分布满足按此设计的9幅图片

满足三频三步相移结构光测量编码原则,其中:i表示条纹方向的第i个像素,i=1,2,L,2048;

第三步:利用MATLAB软件自带的图像抖动函数dither对第二步生成的9幅灰度图进行抖动处理,将灰度图转化为黑白二值图;

第四步:根据得到的9幅黑白二值图结构在Ledit软件中设计光栅,获得物理结构光栅电子文件;

第五步:将第四步中设计好的电子文件输入到电子束扫描光刻机的控制程序,采用电子束扫描光刻的方法在光刻用石英玻璃上制作光栅。

CN101915949B说明书1/3页

3

光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法

技术领域

[0001]本发明涉及光学测量用余弦光强分

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