宣贯培训(2026年)《GBT 23364.4-2009高纯氧化铟化学分析方法 第4部分：铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定 电感耦合等离子体质谱法》.pptxVIP

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一、二、三、四、五、六、七、八、九、十、一、专家深度剖析：高纯氧化铟产业未来趋势与ICP-MS法在其中扮演的关键角色前瞻性洞察

（一）全球高纯氧化铟产业链升级与痕量杂质控制技术演进的必然联系

随着全球显示面板、半导体和光伏产业的迅猛发展，高纯氧化铟作为ITO靶材的核心原料，其纯度要求已达到ppb（十亿分之一）甚至ppt（万亿分之一）级别。传统的分析方法如原子吸收光谱法（AAS）已难以满足当前及未来对多元素同时、快速、准确检测的需求。GB/T23364.4-2009标准的制定与宣贯，正是顺应了这一产业升级趋势，确立了电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）作为痕量金属杂质