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基于约束刻蚀剂层技术的大面积加工：方法创新与仪器构建

一、绪论

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的时代，微纳加工技术已成为众多高科技领域的核心支撑技术，其发展水平直接影响着半导体、光学、生物医学等产业的创新与进步。随着对器件性能和功能集成度要求的不断提高，如何实现高精度、高效率的微纳加工，成为了学术界和产业界共同关注的焦点问题。约束刻蚀剂层技术（CELT）作为一种具有创新性的微纳加工技术，在这一背景下应运而生，并展现出了独特的优势和巨大的应用潜力。

CELT由厦门大学田昭武院士于20世纪90年代初提出，是我国拥有完全自主知识产权的电化学微纳制造技术。该技术通过光/电化学