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基于触媒原理的CVD金刚石薄膜抛光技术：原理、应用与展望

一、引言

1.1研究背景与意义

化学气相沉积（CVD）金刚石薄膜作为一种新型的功能材料，凭借其卓越的性能，在众多领域展现出巨大的应用潜力。它集高硬度、高耐磨性、高导热率、良好的化学稳定性以及优异的光学和电学性能于一身，被誉为是21世纪的战略材料之一。在机械加工领域，金刚石薄膜的高硬度和高耐磨性使其成为制造高速切削刀具的理想材料，能够显著提高加工效率和刀具寿命；在半导体制造中，其极高的导热效率和好的绝缘性质使其可作为半导体激光器和集成电路芯片的散热器件，有助于提高激光、计算机的性能和可靠性；从光学领域来看，金刚石薄膜在从紫外到远红