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  • 2026-03-09 发布于江西
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二流体蚀刻对精细线路咬蚀的影响分析.pdf

HDI板HighDensityInterconnectorBoard印制电路信息2025No.7

二流体蚀刻对精细线路咬蚀的影响分析

林文贤张力强黄永民赵凯张建

(广州广芯封装基板有限公司,广东广州510530)

摘要高端数字芯片载体诸如倒装芯片球栅格阵列(FCBGA)基板不断向精细化方向发展,其在半加成工艺

(SAP)精细线路制作工艺中,最大的特点是使用低微蚀量来降低侧蚀,以确保线路宽度符合尺寸要求。低微蚀量条件

下,在保证线宽的同时,将底部味之素增层膜(ABF)上的化铜咬蚀干净是业界面对的一项难题。线路粗糙会导致自

动光学检验(AOI)的良率降低,同时又引发客户端高频信号损耗失真等问题,为此开展二流体蚀刻对精细线路咬蚀

的影响分析,并优化二流体蚀刻的气液比。

关键词二流体蚀刻;气液比;线路粗糙不良;精细线路

中图分类号:TN41文献标志码:A文章编号:1009⁃0096(2025)07⁃0022⁃05

Analysisoftheimpactoftwofluidetchingonfineline

etching

LINWenxianZHANGLiqiangHUANGYongminZHAOKaiZHANGJian

(GreatechSubstratesCo.,Ltd.,Guangzhou510530,Guangdong,China)

AbstractThehigh-enddigitalchipcarrierssuchasFCBGAareconstantlydevelopingtowardsfinecircuits.

ThebiggestfeatureofSAPsfinelinemanufacturingprocessistheneedtouselowmicroetchingtoreduceside

etchingandensurethecomplianceoflinewidthdimensions.However,itisachallengeintheindustrytoensureline

widthwhileetchingthebottomABFcopperthoroughlyunderlowmicroetching.Roughcircuitcanleadtolowyield

ofBUAOIintheprocess,whilealsoaffectingthelossanddistortionofhigh-frequencysignalsontheclientside.This

articlestudiestheeffectoftwofluidetchingonthebitingoffinecircuits,optimizesthegas-liquidratiooftwofluid

etchingforbitingoffinecircuits.

Keywordsttwofluidetching;gas⁃liquidratio;poorroughnessofthecircuit;fineline

0引言generation,5G)、大数据、高性能计算(high

performancecomputing,HPC)、智能汽车和数据

倒装芯片球栅阵列(flipchipballgridarray,中心等领域的中中央处理机(centralprocessing

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