摘要
摘要
二维GaN材料具有高的光吸收系数、优异的电子迁移率和增强的激子效应,
在光电和电子器件方面具有巨大的应用潜力,而金属-半导体结(MSJ)是二维
GaN基器件的基本组成部分,其源极、漏极(金属材料)与沟道层(半导体材料)
之间的肖特基势垒是限制其发展的关键因素之一。为了挑选出二维GaN基半导
体器件合适的接触金属以及对金属-半导体界面的肖特基势垒进行调控,本文采
用第一性原理的计算方法研究了GaN
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