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2026年(纳米制造工程师)纳米制造技术试题及答案

一、单项选择题（共10题，每题2分，共20分）

1.以下哪项是纳米制造技术区别于传统微制造技术的核心特征？

A.加工精度达到微米级

B.利用量子效应调控材料性能

C.仅依赖光刻工艺

D.不涉及表面修饰技术

答案：B

2.电子束光刻（EBL）的分辨率主要受限于以下哪一因素？

A.电子束斑尺寸

B.光刻机台的机械精度

C.抗蚀剂的显影时间

D.基底材料的热膨胀系数

答案：A

3.原子层沉积（ALD）工艺中，每周期沉积的薄膜厚度通常为：

A.0.11nm

B.110nm

C.10100nm

D.1001000nm

答案：A

4.扫描探针显微镜（SPM）中，原子力显微镜（AFM）的接触模式主要用于：

A.软质样品的表面形貌测量

B.硬质样品的高分辨率成像

C.样品电学性质的表征

D.样品磁学性质的表征

答案：B

5.LIGA技术的核心步骤不包括：

A.深层X射线光刻

B.电铸成型

C.注塑复制

D.等离子体刻蚀

答案：D

6.纳米压印光刻（NIL）的分辨率理论极限主要由以下哪项决定？

A.压印模板的表面粗糙度

B.抗蚀剂的粘度

C.分子间作用力的