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- 2026-03-12 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN102223764A
(43)申请公布日2011.10.19
(21)申请号201010149081.3
(22)申请日2010.04.16
(71)申请人富葵精密组件(深圳)有限公司
地址518103广东省深圳市宝安区福永镇塘
尾工业区工厂5栋1楼申请人鸿胜科技股份有限公司
(72)发明人郑建邦
(51)Int.CI.
HO5K3/00(2006.01)
权利要求书1页说明书5页附图4页
(54)发明名称
软性电路板的制作方法
提供软性基板,所述软性基板包括基底层与导电层将所述导电层形成导电图形
提供软性基板,所述软性基板包括基底层与导电层
将所述导电层形成导电图形
在所述导电图形上形成覆盖层,以使导电图形位于基底层与覆盖层之间
蚀刻所述基底层与覆盖层,以减少至少部分基底层的厚度,并减少至少部分覆盖层的厚度
CN102223764A本发明提供一种软性电路板的制作方法,包括步骤:提供软性基板,所述软性基板包括基底层与导电层;将所述导电层形成导电图形;在所述导电图形上形成覆盖层,以使导电图形位于基底层与覆盖层之间;蚀刻所述基底层与覆盖层,以减少至少部分基底层的厚度,并减少至少部分
CN102223764A
CN102223764A权利要求书1/1页
2
1.一种软性电路板的制作方法,包括步骤:
提供软性基板,所述软性基板包括基底层与导电层;
将所述导电层形成导电图形;
在所述导电图形上形成覆盖层,以使导电图形位于基底层与覆盖层之间;以及
蚀刻所述基底层与覆盖层,以减少至少部分基底层的厚度,并减少至少部分覆盖层的厚度。
2.如权利要求1所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,通过激光烧蚀使得所述导电层形成导电图形。
3.如权利要求1所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,通过化学蚀刻使得所述导电层形成导电图形。
4.如权利要求1所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,在蚀刻所述基底层与覆盖层的步骤中,以基底层材料的化学蚀刻液化学蚀刻所述基底层,以覆盖层材料的化学蚀刻液化学蚀刻所述覆盖层。
5.如权利要求4所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,所述基底层的材料与所述覆盖层的材料相同,在蚀刻所述基底层与覆盖层时,所述基底层与覆盖层被同时蚀刻。
6.如权利要求4所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,在蚀刻所述基底层与覆盖层时,蚀刻整层基底层以减少整层基底层的厚度,蚀刻整层覆盖层以减少整层覆盖层的厚度。
7.如权利要求4所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,在蚀刻所述基底层与覆盖层之前,在所述基底层表面形成第一光致抗蚀剂层,在所述覆盖层表面形成第二光致抗蚀剂层,通过图案转移工艺图案化第一光致抗蚀剂层和第二光致抗蚀剂层,以露出所述至少部分基底层和所述至少部分覆盖层,从而在蚀刻所述基底层与覆盖层之后,仅使得所述至少部分基底层的厚度减少,仅使得所述至少部分覆盖层的厚度减少。
8.如权利要求1所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,所述至少部分基底层是指位于中央区域的部分基底层,所述至少部分覆盖层是指位于中央区域的部分覆盖层。
9.如权利要求1所述的软性电路板的制作方法,其特征在于,所述至少部分基底层减少的厚度在5至15微米之间,所述至少部分覆盖层减少的厚度在5至15微米之间。
CN102223764A说明书1/5页
3
软性电路板的制作方法
技术领域
[0001]本发明涉及电路板制作技术,尤其涉及一种具有较好弯折性能的软性电路板的制作方法。
背景技术
[0002]随着聚酰亚胺膜等柔性材料在电子工业中的广泛应用(请参见Sugimoto,E.在1989发表于IEEEElectricalInsulationMagazine第5卷第1期的“ApplicationsofpolyimidefilmstotheelectricalandelectronicindustriesinJapan”),柔性电路板(FlexiblePrintedCircuitBoa
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