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- 2026-03-19 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN104576542A
(43)申请公布日2015.04.29
(21)申请号201510038372.8
(22)申请日2015.01.26
(71)申请人合肥鑫晟光电科技有限公司
地址230011安徽省合肥市新站区工业园内
申请人京东方科技集团股份有限公司
(72)发明人王玉亮崔大永刘增利李道杰陈士娟
(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限
代理人
(51)Int.CI.
HO1LHO1L
HO1L
公司11243
许静黄灿
21/84(2006.01)
27/12(2006.01)
23/50(2006.01)
权利要求书2页说明书8页附图3页
(54)发明名称
阵列基板及其制作方法、显示装置
(57)摘要
CN104576542A本发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置。本发明在覆盖导电图形或半导体图形的绝缘层上涂布光刻胶;曝光,至少形成光刻胶部分保留区域、光刻胶完全去除区域;刻蚀,至少部分地去除所述光刻胶完全去除区域对应的所述绝缘层,形成中间孔;再次刻蚀,形成所述第一过孔,并在所述中间孔处形成所述第二过孔,露出所述第一过孔和第二孔处
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