光掩模制造及图案转印方法.pdfVIP

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21.申请号201410675995.1

G03F7/00(2006.01)

22.申请日2014.11.21

23.优先权数据

2013-2428432013.11.25JP

(71)申请人HOYA株式会社

地址东

(72)发明人三好将之坪井诚治

(74)专利机构三友11127

人丁香兰

51.Int.01.

GO3F1/56(2012.01)

GO3F1/26(2012.01)

权利要求书1页说明书17页附图5页

(54）发明名称

光掩模的制造方法、光掩模和图案转印方法

(57）

本发明的课题在于一种光掩模的制造方法、光掩模和图案转印方法，对于光掩模而言，

即便是CD低于3μm的细微图案，也可以在被转印体上稳定地形成，此外，充分抑制了其

面内的CD偏差。本发明涉及一种光掩模的制造方法，其为具有包