CN114341929A 用于使用3d设计呈现sem图像并预测衬底的缺陷成像条件的系统及方法 （科磊股份有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN114341929A

(43)申请公布日2022.04.12

(21)申请号202080053168.2

(22)申请日2020.07.23

(30)优先权数据

2019410302212019.07.26IN

16/564,9812019.09.09US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2022.01.24

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2020/0431622020.07.23

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2021/021533EN2021.02.04

(71)申请人科磊股份有限公司地址美国加利福尼亚州

(72)发明人A·亚提C·古鲁穆尔蒂

(74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司11287

代理人刘丽楠

(51)Int.CI.

G06TGO6NGO6NGO6KG01NGO6V

权利要求书3页

7/00(2017.01)3/08(2006.01)

3/04(2006.01)

9/62(2022.01)

23/225(2018.01)

10/764(2022.01)

说明