工业园区新建GaN基紫外光芯片制造项目可行性研究报告.docx

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工业园区新建GaN基紫外光芯片制造项目可行性研究报告

第一章项目总论

项目名称及建设性质

项目名称:工业园区新建GaN基紫外光芯片制造项目

项目建设性质:该项目属于新建工业项目,专注于GaN基紫外光芯片的研发、生产与销售,致力于打造技术领先、绿色环保的现代化芯片制造基地。

项目占地及用地指标:项目规划总用地面积50000平方米(折合约75亩),建筑物基底占地面积36000平方米;规划总建筑面积60000平方米,其中主体生产车间42000平方米、研发中心8000平方米、办公用房5000平方米、职工宿舍3000平方米、配套辅助设施2000平方米。绿化面积3000平方米,场区停车场和道路及场地硬

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