Ti薄膜的制备以及性能表征.docx

摘要

在现代社会快速发展时，磁控溅射随之快速发展成为了目前制备薄膜比较好的方法，相比其他镀膜的方法具有制备薄膜效率高、制备的薄膜纯度高而且磁控溅射易于用于工业大面积生产[1-3]。钛具有许多优点，如高强度，高熔点，耐腐蚀性好等特点。钛具有4.51克cm，这比其他金属更轻的密度。然而，钛具有在高温下的其他材料，加工工艺差，并且在切割和焊接难度差的化学反应性。因此，通过磁控溅射技术涂覆在金属材料的钛不仅可以提高材料的又节约钛的量加可以提高材料的整体性能，并且可以节省大量的成本。因此，这是非常重要和有意义的去开发一种用于通过磁控管溅射制备的钛薄膜技术。在本文中，通过使用磁控溅射以制备钛膜研