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- 2026-04-02 发布于广东
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中芯国际校招面笔试题及答案
单项选择题(每题2分,共20分)
1.集成电路制造中,光刻的主要作用是()
A.去除杂质B.图形转移C.增加导电性D.提高硬度
2.半导体材料中,最常用的是()
A.硅B.锗C.砷化镓D.氮化镓
3.中芯国际的英文缩写是()
A.SMICB.TSMCC.IntelD.Samsung
4.晶圆制造流程中,氧化工序的目的是()
A.形成绝缘层B.去除表面杂质C.提高晶圆强度D.改变晶圆颜色
5.光刻工艺中,光刻胶的作用是()
A.保护晶圆B.
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