2026年化学气相沉积试题及答案
一、单项选择题(每题2分,共20分)
1.化学气相沉积(CVD)过程中,反应气体在基体表面发生()反应。
A.物理B.化学C.物理和化学D.都不是
2.以下哪种气体不属于常见的CVD反应气体()。
A.氢气B.氧气C.氮气D.氯气
3.CVD工艺中,沉积温度对涂层质量()。
A.无影响B.影响不大C.有显著影响D.不确定
4.化学气相沉积的主要优点是()。
A.设备简单B.沉积速率低C.涂层质量好D.成本高
5.以下哪种CVD方法不需要加热()。
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