2026年化学气相沉积试题及答案.doc

2026年化学气相沉积试题及答案

一、单项选择题(每题2分,共20分)

1.化学气相沉积(CVD)过程中,反应气体在基体表面发生()反应。

A.物理B.化学C.物理和化学D.都不是

2.以下哪种气体不属于常见的CVD反应气体()。

A.氢气B.氧气C.氮气D.氯气

3.CVD工艺中,沉积温度对涂层质量()。

A.无影响B.影响不大C.有显著影响D.不确定

4.化学气相沉积的主要优点是()。

A.设备简单B.沉积速率低C.涂层质量好D.成本高

5.以下哪种CVD方法不需要加热()。

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档