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CN120044763A 一种提升全视场光刻成像质量的光源-掩模优化方法 （北京理工大学）.pdfVIP

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  • 2026-04-11 发布于重庆
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CN120044763A 一种提升全视场光刻成像质量的光源-掩模优化方法 （北京理工大学）.pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN120044763A

    (43)申请公布日2025.05.27

    (21)申请号202510166763.1

    (22)申请日2025.02.14

    (71)申请人北京理工大学

    地址100081北京市海淀区中关村南大街5

    号

    (72)发明人李艳秋杨贺刘克

    (74)专利代理机构北京理工大学专利中心

    11120

    专利代理师刘西云

    (51)Int.Cl.

    G03F7/20(2006.01)

    G06F30/39(2020.01)

    G06F111/06(2020.01)

    权利要求书3页说明书9页附图3页

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