HN202604
高三物理
注意事项:
1.答题前,务必将自己的个人信息填写在答题卡上,并将条形码粘贴在答题卡上的指定位置。
2.回答选择题时,选出每小题答案后,用铅笔把答题卡对应题目的答案标号涂黑。如需改动,用橡皮擦干净后,再选涂其他答案标号。回答非选择题时,将答案写在答题卡上。
一、单项选择题:本题共7小题,每小题4分,共28分。每小题只有一个选项符合题目要求。
1.制造芯片需要光刻机,光刻机使用的光源类型主要包括深紫外光(Krr、ArF)和极紫外光(EUV)。处在激发态的氢原子辐射的光中含有紫外光,图为氢原子的能级图,已知紫外光光子的能量范围在3eV至124eV
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