CN120041810A 半导体膜沉积控制方法及系统 (上海积塔半导体有限公司).pdfVIP

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  • 2026-04-15 发布于重庆
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CN120041810A 半导体膜沉积控制方法及系统 (上海积塔半导体有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120041810A

(43)申请公布日2025.05.27

(21)申请号202510186281.2

(22)申请日2025.02.19

(71)申请人上海积塔半导体有限公司

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