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PVD真空镀膜工艺技师考试试卷及答案

一、填空题（共10题，每题1分）

1.PVD的中文全称是______。

2.常用PVD工艺包括蒸发镀膜、溅射镀膜和______。

3.1torr≈______Pa（真空度单位换算）。

4.溅射镀膜常用靶材类型有金属靶、合金靶和______。

5.镀膜前工件表面处理第一步通常是______。

6.离子镀常用离子源有霍尔离子源和______。

7.影响膜层附着力的关键因素之一是工件表面______。

8.PVD真空系统核心组成含真空室、真空泵组和______。

9.常用膜厚测量方法有台阶仪、XRF和______。

10.PVD广泛应用于刀具、模具、装饰和______领域。

二、单项选择题（共10题，每题2分）

1.溅射镀膜工作气压范围是（）

A.10?3~10?2PaB.1~10PaC.10?1~1PaD.10~100Pa

2.高熔点材料（钨、钼）蒸发常用（）

A.电阻蒸发源B.电子束蒸发源C.高频感应源D.激光源

3.PVD工艺真空度一般要求（）

A.10?3Pa以下B.10?2~10?1PaC.1~10PaD.10?1~1Pa

4.PVD膜层常见应力类型是（）

A.拉应力B.压应力C.无应力D.混合应力

5.属于陶瓷靶的是（）

A.TiB.Cr-AlC.Al?O?D.Cu

6.离子镀比蒸发镀膜的优势是（）

A.速率快B.附着力强C.成本低D.