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光学真空镀膜工艺技师考试试卷及答案

一、填空题（共10题，每题1分）

1.光学真空镀膜常用真空度单位有Pa和______。

2.真空镀膜设备核心系统含真空获得、测量、______和镀膜源系统。

3.电阻加热源常用材料有钨丝和______。

4.减反射膜（AR膜）主要作用是______。

5.基片镀膜前需______处理去除油污杂质。

6.离子镀相比蒸发镀，膜层______更好。

7.光学薄膜厚度常用单位是______。

8.机械泵可获得______真空。

9.多层膜沉积速率常用______监控。

10.硬膜（SiO?）沉积温度比软膜（MgF?）______。

二、单项选择题（共10题，每题2分）

1.能获得10?3Pa以下高真空的设备是？

A.机械泵B.旋片泵C.扩散泵D.分子泵

2.单层AR膜常用材料是？

A.SiO?B.TiO?C.MgF?D.Al?O?

3.膜厚不均的非原因是？

A.蒸发源温不均B.工件架转速慢C.基片固定D.真空度过高

4.离子轰击基片的作用是？

A.提高速率B.增强附着力C.降温度D.减应力

5.高折射率膜（n≈2.3）是？

A.MgF?B.SiO?C.TiO?D.Al?O?

6.基片清洗后需？

A.直接装夹B.烘干C.涂胶D.抛光

7.扩散泵工作原理基于？

A.分子扩散B.油蒸气喷射C.机械压缩D.离子轰击

8.多层AR膜结构是？

A.高低折射率交替B.