太阳能电池基础知识.pptVIP

第二章太阳能电池5、去除背结太阳能电池的生产工艺流程步骤：在扩散过程中，硅片的背面和周边也形成了PN结，为防止短路，需要通过刻蚀将其去除，同时去除正面的磷硅玻璃。刻蚀方法湿法刻蚀干法刻蚀是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术，是最普遍、也是设备成本最低的刻蚀方法。它是一种纯化学刻蚀，具有优良的选择性，刻蚀完当前薄膜就会停止，而不会损坏下面一层其他材料的薄膜。干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。图2-8湿法刻蚀工艺流程第二章太阳能电池6、制备减反射膜太阳能电池的生产工艺流程步骤：磁控溅射的特点是成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜。具体方法光在硅表面的反射损失率高达35%左右。为减少硅表面对光的反射，可在电池正面蒸镀上一层或多层减反射膜。减反射膜不但具有减少光反射的作用，而且对电池表面还可起到钝化和保护的作用。等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）磁控溅射技术PECVD的优点是基本温度低；沉积速率快；成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。第二章太阳能电池湿法刻蚀与干法刻蚀的简单比较：⑴湿法刻蚀相对干法刻蚀的优点：①非扩散面的PN结刻蚀时被去除；②硅片洁净度提高；③节水。太阳