《半导体等离子刻蚀机多维度耦合磁场系统性能测试要求》.docxVIP

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半导体等离子刻蚀机多维度耦合磁场系统性能测试要求

1范围

本标准规定了半导体等离子刻蚀机多维度耦合磁场系统（以下简称“磁场系统”）的性能测试项目与要求、测试设备、测试方法、测试步骤、结果评价及测试报告。

本标准适用于半导体制造用等离子刻蚀机中采用多线圈、多磁极等结构以实现磁场强度、方向、梯度等多参数协同控制的磁场系统的性能测试与评价。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。

GB/T17626.1-2023电磁兼容试验和测量技术第1部分：通用要求

GB/T18332.5-2021电磁兼容性测试磁场梯度部分

GB/T28868.3-2020传感器校准规范磁场梯度要求

GB/T36475-2018半导体制造设备等离子体处理设备性能测试方法

GB/T38344-2019半导体制造设备等离子体刻蚀设备性能测试方法

GB/T43264-2023永磁体表面磁场分布测试方法

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

多维度耦合磁场系统multi-dimensionalcoupledmagneticfieldsystem

由多个独立控制的磁场源