dToF相机传感器封测知识半导体IC清洗技术.pdfVIP

制造技术

半导体IC清洗技术

李仁

（中国电子科技集团公司第四十五研究所，北京101601）

摘要：介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,

并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。

关键词：湿法清洗；RCA清洗；稀释化学法；IMEC清洗法；单晶片清洗；干法清洗

中图分类号：TN305.97文献标识码：B文章编号：1003-353X(2003)09-0044-04

LIRen

(The45thResearchInstitute,CETC,Beijing101601,China)

Abstract:

Keywords:

drycleaning

情况发生。根据污染物发生的情况，大致可将污染

1前言

物分为颗粒、