300 mm 硅片表面纳米形貌的评价方法.pdfVIP

300mm硅片表面纳米形貌的评价方法

1范围

本文件描述了300mm硅片表面0.2mm-20mm空间波长范围内的非平面偏差评价方法。

注：纳米形貌不包括微粗糙度，微粗糙度适用于空间波长＜0.1mm的范围。

本文件适用于300mm无图案硅抛光片、硅外延片、SOI片等。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T14264-2024半导体材料术语

GB/T16596确定硅片坐标系规范

GB/T25915.1-2021洁净室及相关受控环境第1部分：按粒子浓度划分空气洁净度等级

3术语和定义

GB/T14264界定的及下列术语和定义适用于本文件。

3.1

无图案硅片unpatternedsiliconwafer

一种没有经过图案化工艺的硅片。

注：图案化工艺是在晶圆内和表面层建立图案的一系列加工。一般是指曝光、显影、刻蚀、离子注入等。

3.2

不完整局部区域partialsite

一部分位于合格质量区外，但其中