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CN120099484A 一种免退火改善二氧化硅应力稳定性的薄膜制备工艺、二氧化硅薄膜产品和应用 .pdfVIP

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  • 2026-05-10 发布于重庆
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CN120099484A 一种免退火改善二氧化硅应力稳定性的薄膜制备工艺、二氧化硅薄膜产品和应用 .pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN120099484A

    (43)申请公布日2025.06.06

    (21)申请号202510262447.4

    (22)申请日2025.03.06

    (71)申请人无锡邑文微电子科技股份有限公司

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