极紫外(EUV)光刻胶测试方法编制说明.docx

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国家标准《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》

（征求意见稿）编制说明

一、工作简况

（一）任务来源

国家标准计划《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》，由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口并组织执行。计划编号T-469，项目周期16个月。

（二）制定背景

EUV光刻是当前全球产业最先进的光刻技术，是我国产业和技术严重受限制的环节，从光刻机到光刻工艺和光刻胶，只能依靠自主创新。国家部署张江实验室联合国内领先的高校科研院所上海大学、中科院化学所、大连理工大学等开展EUV光刻胶的研发。其中上海大学主要负责对EUV光刻胶的开发和测试验证，在项目实