CN119987159A 光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品 (深圳晶源信息技术有限公司).pdfVIP

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  • 2026-05-16 发布于重庆
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CN119987159A 光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品 (深圳晶源信息技术有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119987159A

(43)申请公布日2025.05.13

(21)申请号202510307461.1

(22)申请日2025.03.13

(71)申请人深圳晶源信息技术有限公司

地址518000广东省深圳市福田区福保街

道福保社区红棉街8号英达利科技数

码园C栋401A

(72)发明人朱瑞泓张鸿儒

(74)专利代理机构北京东方亿思知识产权代理

有限责任公司11258

专利代理师尹婧

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书14页附图6页

(54)发明名称

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