CN119585841A 介电材料的选择性蚀刻方法 （应用材料公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119585841A

(43)申请公布日2025.03.07

(21)申请号202380054718.6

(22)申请日2023.01.05

(30)优先权数据

17/874,1422022.07.26US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.17

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0101982023.01.05

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/025613EN2024.02.01

(71)申请人应用材料公司

地址美国加利福尼亚州

(72)发明人黃奕樵埃里克·戴维

(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理

有限公司11006

专利代理师徐金国吴启超

(51)Int.Cl.

H01L21/02(2006.01)

H01L21/311(2006.01)

H01L21/67(2006.01)

权利要求书3页说明书6页附图5页

(54)发明名称

介电材料的选择性蚀刻方法

(57)摘要

CN119585841A方法包括执行蚀刻工艺，所述蚀刻工艺包括供应第一处理气体及第二处理气体至位于处理腔室的处理空间之内的基板支撑件上的基板之表面上达第一持续时间，其中第一处理气体包含含氟气体，并且第二处理气