CN119586327A 等离子体处理装置和控制源高频功率的源频率的方法 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119586327A

(43)申请公布日2025.03.07

(21)申请号202380054512.3

(22)申请日2023.07.21

(30)优先权数据

2022-1198402022.07.27JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.17

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0268322023.07.21

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/024681JA2024.02.01

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人矢崎雄马永海幸一菊池优人

(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限

公司11322

专利代理师龙淳王昊

(51)Int.Cl.

H05H1/46(2006.01)

权利要求书3页说明书12页附图10页

(54)发明名称

等离子体处理装置和控制源高频功率的源

频率的方法

(57)摘要

CN119586327A本发明的等离子体处理装置包括腔室、基板支承部、高频电源和偏置电源。基板支承部具有偏置电极，设置在腔室内。高频电源构成为为了在腔室内生成等离子体而产生源高频功率。偏置电源构成为向偏置电极周期性地供给具有波形周期的电偏置。高频电源构成为将波形周期中的