CN119588675A 一种提升大面阵红外探测器抛光后表面洁净度的清洗方法 (山西创芯光电科技有限公司).docxVIP

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  • 2026-05-20 发布于山西
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CN119588675A 一种提升大面阵红外探测器抛光后表面洁净度的清洗方法 (山西创芯光电科技有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119588675A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202510138010.X

(22)申请日2025.02.08

(71)申请人山西创芯光电科技有限公司

地址030000山西省太原市小店区南内环

街16号二号厂房一层

(72)发明人王慧云张培峰王书浩李水利张竟苏莹

(74)专利代理机构太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙)14109

专利代理师孟肖阳崔浩

(51)Int.Cl.

B08B3/02(2006.01)

B08B3/08(2006.01)

B08B3/12(2006.01)

B08B13/00(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图5页

(54)发明名称

一种提升大面阵红外探测器抛光后表面洁

净度的清洗方法

(57)摘要

CN119588675A本发明提供了一种提升大面阵红外探测器抛光后表面洁净度的清洗方法,属于红外探测器制备技术领域;解决了传统清洗工艺存在残留物导致盲元增加的问题;包括以下步骤:在红外探测器芯片抛光后未取片时通过水雾冲洗红外探测器芯片抛光后的表面;在取片后,将红外探测器芯片放置在清洗工装中,通过洗涤剂结合DI水对红外探测器芯片进行擦洗;通过DI水冲洗红外探测器芯片表

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