CN119596652A 一种无掩膜光刻机的对焦方法及装置 （苏州盛拓半导体科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119596652A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202510142222.5

(22)申请日2025.02.10

(71)申请人苏州盛拓半导体科技有限公司

地址215000江苏省苏州市吴江区东太湖

生态旅游度假区（太湖新城）五方路

899号

(72)发明人陈庆生孙明阳汤国峰

(74)专利代理机构苏州尚为知识产权代理事务所(普通合伙)32483

专利代理师孙志伟

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书7页附图5页

(54)发明名称

一种无掩膜光刻机的对焦方法及装置

(57)摘要

CN119596652A本发明涉及光学技术技术领域，具体涉及一种无掩膜光刻机的对焦方法及装置，包括以下步骤：S1：确定位移台的初始位置，并采集初始位置的光强：S2：控制位移平台在z轴上移动，并采集光强确定光强最大值时的位置；S3：驱动位移台移动至与光强最大值间隔一个粗步长的位置；S4：使用爬山法进行粗定位确定焦平面的大概位置；S5：焦平面的细定位：设定一个细步长，在步骤S4附近±一个粗步长，驱动位移台按照细步长的长度在此区间移动，并获得最大的光强为P1；S6：确定最佳正焦位置：在焦点附近继续采用爬山法搜寻最佳焦点