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退火及预处理工艺对Nb2O5基光学薄膜抗激光损伤特性的研究.pdf

退火及预处理工艺对Nb2O5基光学薄膜抗激光损伤特性的研究.pdf

    摘要

    基于高功率激光技术的快速发展及恶劣环境中实际工程的应用需求，光学元

    件在强激光辐照下的损伤行为已成为制约高功率激光系统性能提升的关键问题。

    研究表明，精密光学元件的抗激光诱导损伤阈值（Laser-inducedDamage

    Threshold,LIDT）与薄膜表面的微观结构存在显著的相关性。而这些微观结构

    形成受到薄膜制备工艺及其表面后处理技术的影响。NbO薄膜因其优异的高折

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