摘要
随着先进光学制造技术的持续发展,光学检测在高精度光学元件制造过程中的关
键作用日益凸显。在光学干涉测量领域,主要技术分为相对测量和绝对测量两大类。
其中,相对测量技术受限于参考镜的面形误差,其测量精度存在固有局限。为突破这
一技术瓶颈,绝对检测技术应运而生。该技术通过对多次测量数据进行系统性整合,
可有效消除或显著降低参考面面形误差的影响,从而在本质上提升面形的检测精度。
这一技术突破不仅推动了光学元件制造工艺的革新发展,更实现了关键工艺流程的优
化升级。
在各类绝对检测方法中,
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