CN119596643A 一种照明成像方法、装置、曝光设备及介质 （光科芯图(北京)科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119596643A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202311160749.8

(22)申请日2023.09.08

(71)申请人光科芯图（北京）科技有限公司

地址102399北京市大兴区荣华中路22号

院1号楼31层3101

(72)发明人王向戎牛志元韦炳威

(74)专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理

有限公司11250

专利代理师李静玉

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

G02B27/48(2006.01)

权利要求书2页说明书9页附图5页

(54)发明名称

一种照明成像方法、装置、曝光设备及介质

(57)摘要

CN119596643A本发明涉及光刻成像技术领域，公开了一种照明成像方法、装置、曝光设备及介质。本发明将至少两束平面波照射至掩模面上，对同一束平面波通过掩模面上每一个预设区域后在像平面的复振幅分布进行相干叠加，得到平面波在像平面的复振幅分布，并基于该复振幅分布得到平面波在像平面的光强分布；对所有平面波在像平面对应的光强分布进行非相干叠加，得到成像结果。本发明利用非相干平面波成像的方法，极大降低了成像系统的冗杂程度，避免了设计复杂的投影物镜系统，且本发明结合了单束相干平面波的和多束非相干平