2026年脑机接口研究员考试题库(附答案和详细解析)(0516).docxVIP

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  • 2026-05-23 发布于江苏
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2026年脑机接口研究员考试题库(附答案和详细解析)(0516).docx

脑机接口研究员

一、单项选择题(共10题,每题1分,共10分)

在非侵入式脑机接口中,用于采集脑电信号(EEG)的常用电极放置位置是:A.硬膜外B.硬膜下C.头皮D.脊髓

答案:C解析:头皮电极(EEG)放置于头皮表面,是最常见的非侵入式采集方式,信号穿透颅骨衰减较大但安全性高;硬膜外/硬膜下电极(ECoG)位于硬脑膜外或下方,信噪比优于EEG;脊髓电极用于运动功能恢复。

以下哪种材料常被用于制造侵入式BCI的高性能微电极阵列?A.铂B.硅C.金D.银

答案:B解析:硅微电极(如Utaharray)因其高密度阵列和良好的生物相容性,是侵入式BCI中最为常

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