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ECR等离子体辅助脉冲激光沉积薄膜：技术融合与多元应用探索

一、引言

1.1研究背景与目的

随着材料科学的迅猛发展，薄膜材料在众多领域展现出关键作用，其性能的优劣直接影响相关技术的突破与应用拓展。脉冲激光沉积（PLD）技术作为一种新兴的薄膜制备手段，凭借其独特优势，如可精确控制薄膜成分、能够在复杂衬底上成膜以及对多种材料体系的广泛适用性等，在制备半导体、高温超导、铁电、压电和磁光等各类特殊功能薄膜方面取得显著成效。然而，传统PLD技术在某些方面仍存在局限，例如成膜质量和生长速率有待提升，难以满足日益增长的高性能薄膜需求。

与此同时，电子回旋共振（ECR）微波放电技术脱颖而出，它能在低工作