CN119604641A 对准装置、成膜装置、控制方法、电子器件的制造方法、程序及存储介质 (佳能特机株式会社).docxVIP

  • 1
  • 0
  • 约3.04万字
  • 约 54页
  • 2026-05-25 发布于山西
  • 举报

CN119604641A 对准装置、成膜装置、控制方法、电子器件的制造方法、程序及存储介质 (佳能特机株式会社).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119604641A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202380056296.6

(22)申请日2023.06.01

(30)优先权数据

2022-1273032022.08.09JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.24

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0204112023.06.01

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/034236JA2024.02.15

(71)申请人佳能特机株式会社地址日本

(72)发明人长沼义人谷和宪神田宽金内正信

(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所

有限公司11038

专利代理师韩卉

(51)Int.Cl.

C23C14/04(2006.01)

H05B33/10(2006.01)

H10K50/10(2006.01)

权利要求书4页说明书14页附图15页

(54)发明名称

对准装置、成膜装置、控制方法、电子器件的

制造方法、程序及存储介质

(57)摘要

CN119604641A一种对准装置,所述对准装置具备:支承基板的基板支承部件;支承掩模的掩模支承部件;调整所述基板支承部件与所述掩模支承部件的重力方向的距离的距离调整部件

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档